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Trion Orion HDCVD高密度化學氣相沉積系統(tǒng)

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具體成交價以合同協(xié)議為準

公司名稱韋氏納米系統(tǒng)（深圳）有限公司
品牌其他品牌
型號
所在地深圳市
廠商性質(zhì)代理商
更新時間2018/9/25 11:23:02
訪問次數(shù)622

產(chǎn)品標簽:

化學氣相沉積系統(tǒng)沉積系統(tǒng)

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公司介紹主營產(chǎn)品

First-Nano System GmbH

2003年創(chuàng)立于德國德累斯頓工業(yè)大學（Dresden University of Technology）
2008年香港成立德國韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司
2015年上海成立德國韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司中國代表處，負責中國區(qū)業(yè)務(wù)
2018年深圳正式成立韋氏納米系統(tǒng)（深圳）有限公司，更好的為中國南方區(qū)市場

產(chǎn)品范圍：

薄膜沉積/Thin Film Deposition
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蝕/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面處理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液

展開顯示更多內(nèi)容

光學透鏡和儀器，實驗室器具，專用儀器儀表，電化學設(shè)備和部件

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Orion HDCVD 高密度氣相化學沉積系統(tǒng)

Trion Orion HDCVD高密度化學氣相沉積系統(tǒng) 產(chǎn)品信息

Orion HDCVD 高密度氣相化學沉積系統(tǒng)采用高密度的化學氣相沉積技術(shù)，在惰性氣體進入口安裝感應(yīng)線圈，周圍布置陶瓷管。射頻創(chuàng)建等離子體,通過氣體環(huán)在襯底表面附近引入揮發(fā)性氣體。當惰性氣體與揮發(fā)性物質(zhì)結(jié)合時，會發(fā)生化學反應(yīng)，然后在襯底表面沉積一層薄膜.

該技術(shù)不需要將襯底加熱到典型的PECVD溫度，并且該方法非常適合沉積在有機物、柔性襯底和其它具有溫度限制的表面上。

射頻可通過Chuck改變薄膜性能。

該系統(tǒng)可以升級傳送Loadlock，或添加到集群平臺Cluster。