10月28日，《中共中央關(guān)于制定國民經(jīng)濟和社會發(fā)展第十五個五年規(guī)劃的建議》正式發(fā)布。《建議》在“加快高水平科技自立自強”部分明確提出，要完善新型舉國體制，采取超常規(guī)措施，全鏈條推動包括集成電路、高端儀器在內(nèi)的重點領域關(guān)鍵核心技術(shù)攻關(guān)取得決定性突破。這一部署，不僅再次確立了集成電路產(chǎn)業(yè)的戰(zhàn)略高度，更強調(diào)了高端儀器在保障國家產(chǎn)業(yè)鏈安全中的關(guān)鍵作用。

一、響應政策號召，前瞻布局半導體國產(chǎn)替代

近年來，國家相繼出臺系列政策，全力支持集成電路全產(chǎn)業(yè)鏈的創(chuàng)新發(fā)展，提升自主可控能力。作為國內(nèi)氣體傳感器與高端科學儀器的上市企業(yè)，四方光電股份有限公司（以下簡稱“四方光電”）及旗下全資子公司四方光電（武漢）儀器有限公司（以下簡稱“四方儀器”）積極響應國家政策號召，依托在氣體傳感領域的深厚技術(shù)積淀和敏銳產(chǎn)業(yè)洞察，前瞻性布局半導體精密制造領域，已構(gòu)建起完整的技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化體系，特別是在紅外（NDIR）、氧化鋯等傳感原理上，具備了從核心傳感器到高端分析儀器的全鏈條自主研發(fā)能力。

針對半導體制造中對氣體環(huán)境極其嚴苛的監(jiān)控需求，四方光電持續(xù)技術(shù)攻堅，打破國外壟斷，自主研發(fā)推出紅外氣體傳感器和微量氧分析儀等多款創(chuàng)新產(chǎn)品，精準解決行業(yè)核心痛點，為中國半導體產(chǎn)業(yè)的高質(zhì)量發(fā)展提供堅實可靠的國產(chǎn)化技術(shù)支撐。

二、 聚焦核心技術(shù)，以創(chuàng)新產(chǎn)品直擊行業(yè)痛點

01. 紅外氣體傳感器：精準判定清潔終點，推動綠色制造

在薄膜沉積（CVD/ALD）工藝中，腔室清潔是保障工藝穩(wěn)定性的關(guān)鍵步驟。傳統(tǒng)基于經(jīng)驗時間的控制方法，為避免清潔不徹底往往采取過度清潔策略，造成了NF?等昂貴工藝氣體的巨大浪費。

四方光電推出的 Gasboard-2060紅外氣體傳感器，直擊這一痛點。該產(chǎn)品通過實時、精準監(jiān)測清潔過程中副產(chǎn)物如SiF?的濃度變化，能夠精準、智能地判定清潔終點。這幫助客戶在實現(xiàn)精準工藝控制的同時，有效降低運營成本，踐行綠色制造理念。

02. 微量氧分析儀：0.1ppm級精度，守護工藝環(huán)境純凈

在半導體制造中，氧污染是影響芯片良率的“隱形殺手”。即便微量氧氣（低至ppm級）也足以引發(fā)不必要的氧化反應，導致集成電路和硅片缺陷，破壞薄膜結(jié)構(gòu)的完整性，嚴重影響產(chǎn)品的均勻性和可靠性。

四方光電自主研發(fā)的 Gasboard-3050系列低濃度氧氣分析儀，最低分辨率達0.1 ppm，量程覆蓋0–10 ppm至100% O?，搭載經(jīng)現(xiàn)場長期驗證的氧化鋯傳感器，具備優(yōu)異的再現(xiàn)性與高速響應特性，能對工藝氣體及設備腔室中的氧含量進行精準監(jiān)測，從而有效幫助客戶從源頭控制氧污染，為提升產(chǎn)品良率提供可靠保障。

三、贏得市場信賴，國產(chǎn)力量獲頭部客戶認可

憑借優(yōu)秀的產(chǎn)品性能與穩(wěn)定的質(zhì)量表現(xiàn)，四方光電的半導體行業(yè)氣體監(jiān)測方案已成功打入國內(nèi)多家主流半導體制造企業(yè)與設備廠商的供應鏈，并獲得頭部客戶的持續(xù)采購與良好評價?？蛻舴答佔C實，四方光電的產(chǎn)品在穩(wěn)定性及使用壽命等關(guān)鍵指標上，已達到同類進口產(chǎn)品水平，真正實現(xiàn)了國產(chǎn)化替代。

與此同時，四方光電積極參與SEMICON China、CSEAC半導體設備年會等全球頂級半導體行業(yè)盛會，通過展會平臺與產(chǎn)業(yè)界深入交流，持續(xù)擴大品牌影響力，展示了中國企業(yè)在高端科學儀器領域的創(chuàng)新實力與進取精神。

展望“十五五”新征程，高端儀器與集成電路產(chǎn)業(yè)的命運緊密交織在一起。四方光電將繼續(xù)秉持技術(shù)自立的初心，緊密圍繞國家戰(zhàn)略與產(chǎn)業(yè)需求，不斷攻堅高端氣體分析領域的“卡脖子”難題，以更多創(chuàng)新、可靠的傳感解決方案，賦能中國半導體產(chǎn)業(yè)的提質(zhì)增效與自主可控。